特許
J-GLOBAL ID:200903067223273826
テキスタイルの清浄化方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
石田 敬 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-285388
公開番号(公開出願番号):特開2000-119690
出願日: 1999年10月06日
公開日(公表日): 2000年04月25日
要約:
【要約】【課題】 テキスタイルから任意の油状及び/又は油脂状の汚れを除去する方法を提供すること。【解決手段】 無機塩基化合物の存在下、式:【化1】(式中、nは1〜7の整数である)により表される低分子量線状シロキサンとカチオン界面活性剤を含む組成物を汚れたテキスタイルに適用し、そのテキスタイルが劣化する温度よりも低い温度に加熱することを含むテキスタイルの清浄化方法。
請求項(抜粋):
無機塩基化合物の存在下、式:【化1】(式中、nは1〜7の整数である)により表される低分子量線状シロキサンとカチオン界面活性剤を含む組成物を汚れたテキスタイルに適用し、そしてそのテキスタイルが劣化する温度よりも低い温度に加熱することを含むテキスタイルの清浄化方法。
IPC (6件):
C11D 3/20
, B08B 3/08
, C11D 1/62
, C11D 1/72
, C11D 3/04
, C11D 3/43
FI (6件):
C11D 3/20
, B08B 3/08 Z
, C11D 1/62
, C11D 1/72
, C11D 3/04
, C11D 3/43
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