特許

J-GLOBAL ID：200903067242240343

ホウ素拡散用塗布液

発明者： 萩原 嘉男 ,  佐藤 功 ,  平山 晴子 ,  中山 寿昌
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 服部 平八
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-350729
公開番号（公開出願番号）：特開平9-181010
出願日： 1995年12月26日
公開日（公表日）： 1997年07月11日
要約：

【要約】【課題】毒性が少なく、安全である上に、ホウ素を拡散した半導体デバイスの抵抗値にバラツキを発生させないホウ素拡散用塗布液を提供することを目的とする。【構成】(a)ホウ素化合物、(b)アルコール性水酸基含有高分子化合物、(c)プロピレングリコール誘導体溶剤及び(d)非イオン性界面活性剤を含有することを特徴とするホウ素拡散用塗布液。

請求項（抜粋）：

(a)ホウ素化合物、(b)アルコール性水酸基含有高分子化合物、(c)プロピレングリコール誘導体溶剤及び(d)非イオン性界面活性剤を含有することを特徴とするホウ素拡散用塗布液。