特許

J-GLOBAL ID：200903067244064666

研磨砥粒およびこの研磨砥粒を用いて製造された磁気ディスク

発明者： 中島 典彦 ,  橋本 高行 ,  中村 裕行 ,  伊藤 芳昭
出願人/特許権者： 富士電機株式会社
代理人 (1件)： 山口 巖
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-058428
公開番号（公開出願番号）：特開平8-252766
出願日： 1995年03月17日
公開日（公表日）： 1996年10月01日
要約：

【要約】【目的】磁気ディスクの基板のテクスチャ加工に好適な研磨砥粒を見出し、この研磨砥粒でテクスチャを形成した基板を用いて高記密度でCSS特性に優れR/Wのエラーの少ない磁気ディスクを提供する。【構成】D50径が0.5μm〜10μmでかつD90径/MODE径が1.7以下の粒度分布を有する砥粒を粗粒とし、D50径が粗粒のD50径の0.1倍〜0.9倍の範囲内でその最大粒径が粗粒の最大粒径を超えない粒度分布を有する砥粒を細粒とし、これらの粗粒と細粒を容量混合比95:5〜40:60で混合して研磨砥粒とし、この研磨砥粒でテクスチャを形成した基板を用いて磁気ディスクを作製する。

請求項（抜粋）：

篩上質量分布が50%となる粒径(D50径)が0.5μmないし10μmの範囲内で、かつ、篩上質量分布が90%となる粒径(D90径)と質量頻度分布の頂点の粒径(MODE径)の比(D90径/MODE径)が1.7以下である粒度分布を有する砥粒を粗粒とし、篩上質量分布が50%となる粒径(D50径)が前記粗粒の篩上質量分布が50%となる粒径(D50径)の0.1倍ないし0.9倍の範囲内で、かつ、その最大粒径が前記粗粒の最大粒径を超えない粒度分布を有する砥粒を細粒とし、両者が混合されてなる研磨砥粒であり、前記粗粒と細粒との容量混合比が95:5ないし40:60の範囲内であることを特徴とする研磨砥粒。

IPC (4件)：

B24B 37/00 ,  G11B 5/82 ,  G11B 5/84 ,  C09K 3/14 550

FI (4件)：

B24B 37/00 H ,  G11B 5/82 ,  G11B 5/84 A ,  C09K 3/14 550 F