特許

J-GLOBAL ID：200903067254347950

感光性組成物及びパターン形成方法

発明者： 小林 袈裟直 ,  長田 崇一郎
出願人/特許権者： 富士フイルムオーリン株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-117184
公開番号（公開出願番号）：特開平10-307387
出願日： 1997年05月07日
公開日（公表日）： 1998年11月17日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】大気雰囲気下に活性光線を露光しても、露光領域に充分な重合が生じ、露光領域と非露光領域との間に充分な粘着性の差が生じ、この差を利用して精度よく無機材料を含む粉末のパターンを形成するための感光性組成物及びパターン形成方法の提供。【解決手段】下記一般式H2 C=C(R)-COO-(C2 H4 O) m -CO-Y-COOZで示されるモノマーを含有し、活性光線の露光により形成された非露光粘着領域と露光非粘着領域からなるパターンの該非露光粘着領域に無機材料を含む粉末を付着させて、該粉末のパターンを形成させるために用いられる感光性組成物。〔上記式において、Rは、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基;Yは、フェニレン基又はシクロアルキレン基;Zは、水素原子、炭素数1〜3のアルキル基又は-(C2H4O)n-H(ここで、nは1〜9の整数である)で示される基を表わし;mは、1〜9の整数である〕

請求項（抜粋）：

(イ)下記一般式(1)H2 C=C(R)-COO-(C2 H4 O) m -CO-Y-COOZ〔上記式において、Rは、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表し;Yは、フェニレン基又はシクロアルキレン基を表わし;Zは、水素原子、炭素数1〜3のアルキル基又は-(C2 H4 O)n -H(ここで、nは1〜9の整数である)で示される基を表わし;mは、1〜9の整数である〕で示されるモノマー群から選択される少なくとも一種のモノマーを含有し、(ロ)活性光線の露光により形成された非露光粘着領域と露光非粘着領域からなるパターンの該非露光粘着領域に無機材料を含む粉末を付着させて、該粉末のパターンを形成させるために用いられることを特徴とする感光性組成物。

IPC (7件)：

G03F 7/004 523 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/28 ,  G03F 7/36 ,  H01J 9/02 ,  H01J 9/227

FI (7件)：

G03F 7/004 523 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/28 ,  G03F 7/36 ,  H01J 9/02 F ,  H01J 9/227 E