特許
J-GLOBAL ID：200903067282909157
金属化合物の還元方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
富村 潔 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-516908
公開番号（公開出願番号）：特表平11-503205
出願日： 1996年10月29日
公開日（公表日）： 1999年03月23日
要約：
【要約】粉末冶金法にとっては適当な金属粉末を用意することが重要である。今日まで金属粉末、特に高融点金属は極めて時間及び従って経費を要する方法による金属化合物の還元により、例えば固体の金属化合物を流動層炉又は押出し型炉内で金属粉末に還元することにより製造されてきた。本発明によれぼ粉末状金属化合物の還元は固相の保持下に連続したプロセスとして粒子を予め設定した飛跡で反応室を通過させることにより行われる。このプロセスの経過時間は平均0.4〜60秒である。その際このプロセスは少なくとも90%の完全度で進行する。
請求項（抜粋）：
還元すべき原料、ガス状還元媒体及び選択的にキャリアガス用の取入れ口及び排出口を有する温度調節可能の反応室内で還元すべき原料としての粉末状金属化合物から所定の最終生成物としての金属粉末又は低い酸化段階の粉末状化合物に1つ又は複数の反応段階を経て化学的に還元する方法において、還元すべき粉末状原料を反応室に連続的に入れ、この反応室を熱化学反応の経過下及び固相の保持下に平均0.4〜60秒間で所定の飛跡で通過させ、その際還元すべき原料の飛跡は取込みの際のその飛行方向及び速度を介して及び/又は取込み時のガスの流動パラメータにより予め設定され、またその際原料は少なくとも90%の完全度で所定の粉末状反応状態に移行させられることを特徴とする金属化合物の化学的還元方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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