特許
J-GLOBAL ID：200903067288472540
投影露光方法及び面位置検出方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-073018
公開番号（公開出願番号）：特開平9-266149
出願日： 1996年03月28日
公開日（公表日）： 1997年10月07日
要約：
【要約】【課題】 どのような露光層を有するウエハに対しても常にベストフォーカス状態でレチクルのパターンを露光することのできる投影露光方法を提供する。【解決手段】 感光基板Wの所定の領域に複数のレチクルRのパターンを反復して露光するに際し、感光基板Wの表面上にパターン形成板62のスリットを通して複数の光束を入射し、感光基板Wで反射された光束を検出器69の複数の検出器で検出することによって感光基板Wの表面の光軸AX方向の位置ずれを検出する。各レチクルRによる露光の開始前に、露光すべき感光基板Wを用いて複数の検出器に対応する各計測点でのオフセットを計測する。
請求項（抜粋）：
レチクルのパターンを所定の結像面内に結像する投影光学系と、感光基板を保持するとともに2次元移動可能なXYステージと、前記感光基板を前記投影光学系の光軸方向に移動させるZステージと、前記投影光学系の投影視野内の予め定められた複数の位置に計測点を有し該複数の計測点の夫々で前記感光基板の表面の光軸方向の位置ずれを検出する焦点検出手段とを備える投影露光装置を用い、複数のレチクルを使用して感光基板上の所定の領域に投影露光を反復して複数層を形成する投影露光方法において、各レチクルによる投影露光の開始前に、露光すべき感光基板を用いて前記焦点検出手段の各計測点でのオフセットを計測することを特徴とする投影露光方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 526 B
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 522 B
