特許
J-GLOBAL ID：200903067288971180
洗浄方法及び洗浄装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-251257
公開番号（公開出願番号）：特開平5-090239
出願日： 1991年09月30日
公開日（公表日）： 1993年04月09日
要約：
【要約】【目的】 湿式と乾式の洗浄を連続して行う洗浄方法及び湿式と乾式の洗浄を連続して行うことが可能な洗浄装置に関し、シリコン酸化膜の形成状態に無関係に一定のエッチングレートでエッチングを行うことができ、この工程以前に半導体基板に付着したパーティクルや汚染物質を除去することが可能となる洗浄方法及び洗浄装置の提供を目的とする。【構成】 薬液を用いて被洗浄物を洗浄する湿式の薬液洗浄工程1と、水を用いてこの被洗浄物を洗浄する水洗工程2と、高速で回転するターンテーブル上にこの被洗浄物を搭載して乾燥するスピン乾燥工程3と、弗化水素の蒸気中でこの被洗浄物を洗浄する乾式の弗化水素蒸気洗浄工程4とからなる処理工程によりこの被洗浄物を処理するように構成する。
請求項（抜粋）：
薬液を用いて被洗浄物を洗浄する湿式の薬液洗浄工程(1) と、水を用いて前記被洗浄物を洗浄する水洗工程(2) と、高速で回転するターンテーブル上に前記被洗浄物を搭載して乾燥するスピン乾燥工程(3) と、弗化水素の蒸気中で前記被洗浄物を洗浄する乾式の弗化水素蒸気洗浄工程(4) とからなる処理工程により前記被洗浄物を処理することを特徴とする洗浄方法。
IPC (2件)：
H01L 21/304 351
, H01L 21/304
