特許

J-GLOBAL ID：200903067289538162

レジスト用重合体および化学増幅型レジスト組成物

発明者： 藤原 匡之 ,  桑野 英昭 ,  脇阪 幸也 ,  加門 良啓
出願人/特許権者： 三菱レイヨン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-338138
公開番号（公開出願番号）：特開2003-140346
出願日： 2001年11月02日
公開日（公表日）： 2003年05月14日
要約：

【要約】【課題】 DUVエキシマレーザーリソグラフィー、電子線リソグラフィー等のリソグラフィーにおいて、より高い解像度が得られるレジスト用(共)重合体および化学増幅型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 酸によりアルカリ水溶液に可溶となるレジスト用(共)重合体であって、ラクトン環上に(メタ)アクリロイルオキシ基を含む置換基以外の置換基を有していてもよいγ-ブチロラクトン環を有する(メタ)アクリレートの光学活性体等の光学活性なラクトン骨格を有する単量体を単独重合またはその他の単量体と共重合して得られるレジスト用(共)重合体。

請求項（抜粋）：

酸によりアルカリ水溶液に可溶となるレジスト用(共)重合体であって、光学活性なラクトン骨格を有する単量体を単独重合またはその他の単量体と共重合して得られるレジスト用(共)重合体。

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 20/26 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 20/26 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (21件)：

2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA11P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12Q ,  4J100BC37Q ,  4J100BC53P ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平4-173812
  
• 光学活性なカルバメ-ト基を有するイソシアナ-トの重合体およびその製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-034467   出願人：ダイセル化学工業株式会社