特許
J-GLOBAL ID:200903067300726332

帯電装置、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 黒田 壽
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-003118
公開番号(公開出願番号):特開2004-219444
出願日: 2003年01月09日
公開日(公表日): 2004年08月05日
要約:
【課題】帯電部材と被帯電部材との間隙を更に安定して保持させることができると共に、より安価にかつ容易に達成することができる非接触帯電方式の帯電装置、この帯電装置を有するプロセスカートリッジ、及び画像形成装置を提供する。【解決手段】帯電ローラ10の基体に切削や研磨等の手法で凸部を形成する。この基体の表面に抵抗層として収縮性チューブを被せ、チューブを収縮させて抵抗層を形成する。これにより、基体に凸部が形成されている部分の抵抗層表面の高さを、他の部分の高さに比して帯電ギャップGp分だけ高くなるようにし、帯電ローラのスペーサ部Sを形成する。この帯電ローラがスプリング23によって感光体ドラム1へ向けて押圧されると、帯電ローラの抵抗層のうち2つのスペーサ部Sの間の領域である帯電部が感光体ドラム1表面に対して帯電ギャップGpをもって対向する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
被帯電体に対向配置される帯電部材を具備し、該帯電部材に電圧を印加して被帯電体を帯電する帯電装置であって、 該帯電部材が、基体と、該基体の外周にある抵抗層と、被帯電体に当接するスペーサ部とを有し、 該スペーサ部が該帯電体に当接することにより該抵抗層の少なくとも一部が該被帯電体表面に対して所定の間隙をもって対向することが可能に構成された帯電装置において、 上記スペーサ部を、上記基体に形成した凸部によって構成したことを特徴とする帯電装置。
IPC (2件):
G03G15/02 ,  F16C13/02
FI (3件):
G03G15/02 101 ,  G03G15/02 102 ,  F16C13/02
Fターム (32件):
2H200FA02 ,  2H200FA13 ,  2H200GA23 ,  2H200GA34 ,  2H200GB44 ,  2H200HA03 ,  2H200HA28 ,  2H200HB12 ,  2H200HB20 ,  2H200HB22 ,  2H200HB45 ,  2H200HB46 ,  2H200HB48 ,  2H200LA07 ,  2H200MA01 ,  2H200MA02 ,  2H200MB01 ,  2H200MC20 ,  2H200NA02 ,  2H200NA06 ,  3J103AA02 ,  3J103AA13 ,  3J103AA36 ,  3J103AA38 ,  3J103AA41 ,  3J103AA81 ,  3J103CA03 ,  3J103CA05 ,  3J103CA13 ,  3J103CA17 ,  3J103GA02 ,  3J103GA58
引用特許:
出願人引用 (7件)
全件表示
審査官引用 (7件)
全件表示

前のページに戻る