特許
J-GLOBAL ID:200903067311557052

分析装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 真田 有
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-233346
公開番号(公開出願番号):特開2000-065722
出願日: 1998年08月19日
公開日(公表日): 2000年03月03日
要約:
【要約】【課題】 紫外蛍光法を用いた分析装置において、簡易な構成により、被分析ガス照射用の紫外線の強度の低下を抑制して、分析を精度良く行なえるようにする。【解決手段】 紫外線照射光源を内蔵する紫外線照射光源部55と、紫外線照射光源部55からの紫外線を被分析ガスに照射して被分析ガス中の成分測定を行なう測定セル部56とをそなえ、紫外線照射光源部55内に、不活性ガスを密封するように構成する。
請求項(抜粋):
紫外線照射光源を内蔵する紫外線照射光源部と、該紫外線照射光源部からの紫外線を被分析ガスに照射して該被分析ガス中の成分測定を行なう測定セル部とをそなえ、該紫外線照射光源部内に、不活性ガスが密封されていることを特徴とする、分析装置。
IPC (3件):
G01N 21/01 ,  G01N 21/64 ,  G01N 31/00
FI (3件):
G01N 21/01 D ,  G01N 21/64 Z ,  G01N 31/00 P
Fターム (19件):
2G042AA01 ,  2G042BB12 ,  2G042CA01 ,  2G042CB01 ,  2G043AA01 ,  2G043BA11 ,  2G043CA01 ,  2G043EA01 ,  2G043GA06 ,  2G043GB28 ,  2G043KA03 ,  2G043LA02 ,  2G059AA01 ,  2G059BB01 ,  2G059CC06 ,  2G059EE07 ,  2G059HH03 ,  2G059KK01 ,  2G059LL02

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