特許

J-GLOBAL ID：200903067311855541

露光方法および露光装置

発明者： 老泉 博昭 ,  片桐 創一 ,  伊東 昌昭 ,  小川 太郎 ,  山梨 弘将
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-006111
公開番号（公開出願番号）：特開平10-208999
出願日： 1997年01月17日
公開日（公表日）： 1998年08月07日
要約：

【要約】【課題】遠紫外ないしX線領域の光を用いたパターン露光方法および装置で、ウェハ上の照度分布の均一性を高め、かつ露光強度を高める。【解決手段】長波長光フィルタを複数種類の膜からなる複合膜で形成して薄膜化を可能とし、また所定の光学系を配置して露光ビームが通過するフィルタの領域を小さくする。

請求項（抜粋）：

少なくとも遠紫外領域,真空紫外線領域,極紫外線領域または軟X線領域のビームを放射する光源を用いて、所定のパターンが形成されている第一の光学素子を照明し、前記第一の光学素子に描かれている前記パターンを、結像光学系を介して、ある基板上に縮小転写する投影露光法において、前記第一の光学素子に照明する前に、前記ビームの光軸上に、複数種類の材料で構成された膜を置くことを特徴とする露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 531 E ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 531 A