特許
J-GLOBAL ID：200903067315731758
水性塗料の塗布方法および画像形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
前島 肇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-347830
公開番号（公開出願番号）：特開平7-191214
出願日： 1993年12月26日
公開日（公表日）： 1995年07月28日
要約：
【要約】【目的】 耐薬品性、耐水性、耐熱性、基板に対する密着性などが良好で、かつ低反射性の塗膜が得られる遮光パターン形成用塗料を、安全性および衛生面に優れた方法により、均一にポジ型フォトレジストパターンの上に塗布すること、および同パターンのリフトオフにより水性塗料のシャープな微細パターンを形成することを目的とする。【構成】 ポジ型フォトレジストのパターンを基板上に形成し、次いで電磁放射線を一様に照射した後に、水性塗料を均一に塗布すること、およびポジ型フォトレジストをアルカリ性の水溶液によって溶解剥離(リフトオフ)することによって水性塗料の微細なパターンを形成する。
請求項（抜粋）：
ポジ型フォトレジストを用いて基板上にパターンを形成し、さらに電磁放射線を照射した後に、水性塗料を塗布することを特徴とする水性塗料の塗布方法。
IPC (2件)：
G02B 5/20 101
, G02F 1/1335 505
