特許
J-GLOBAL ID：200903067336395154
静電チャック
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-030268
公開番号（公開出願番号）：特開平5-226462
出願日： 1992年02月18日
公開日（公表日）： 1993年09月03日
要約：
【要約】【目的】 本発明は,ウエハ等の被処理基板の処理過程における,ウエハを吸着固定する静電チャックの構造に関し,プラズマ中のウエハの温度分布を一様にする構造の静電チャックを提供することを目的とする。【構成】 静電チャック1において, 電極3を2個以上独立して埋め込み,電極3毎に誘電体層2’の厚さを変えて,電極3とウエハ5との間の吸着力を部分的に制御して,ウエハ5の温度分布を一様にするように構成する。
請求項（抜粋）：
静電チャック(1) において, 誘電体(2) 内の電極(3) と, 被吸着基板(5) との間の誘電体層の厚さを変化させていることを特徴とする静電チャック。
IPC (3件)：
H01L 21/68
, B23Q 3/15
, H02N 13/00
