特許

J-GLOBAL ID：200903067341049949

レベンソン型位相シフトマスク及びその製造方法

発明者： 北村 芳隆
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 柏谷 昭司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-008827
公開番号（公開出願番号）：特開平9-197650
出願日： 1996年01月23日
公開日（公表日）： 1997年07月31日
要約：

【要約】【課題】 レベンソン型位相シフトマスク及びその製造方法に関し、選択エッチング性、低屈折率性、及び、マスクの洗浄工程における耐薬品性の全てにおいて優れた特性を有するエッチングストップ層を提供する。【解決手段】 支持基板1上に酸化珪素と酸化タンタルの混合膜からなるエッチングストップ層2を介して、誘電体膜からなる位相シフター3を設ける。

請求項（抜粋）：

支持基板上に酸化珪素と酸化タンタルの混合膜からなるエッチングストップ層を介して、誘電体膜からなる位相シフターを設けたことを特徴とするレベンソン型位相シフトマスク。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/3065

FI (4件)：

G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528 ,  H01L 21/302 J