特許
J-GLOBAL ID：200903067382386976
錫めっき及び錫-鉛合金めっき用非酸性浴、及び該めっき浴を用いためっき方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 稔 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-085369
公開番号（公開出願番号）：特開平9-272995
出願日： 1996年04月08日
公開日（公表日）： 1997年10月21日
要約：
【要約】【課題】 被めっき物のセラミック部分が侵食することがなく、かつ本来めっきされるべき部分にのみ錫めっき又は錫-鉛合金めっきを施こすことができる錫めっき浴または錫-鉛合金めっき浴を提供すること。【解決手段】 第一錫源(及び鉛源)、これとキレートを形成するための錯化剤とを含有し、浴中の無機陰イオンの合計含有量が1.5モル/l以下であり、陽イオンとして(a)アルカリ金属イオン及び/又はアルカリ土類金属イオンと(b)アンモニウムイオン及び/又は有機アミンイオンとを含有し、陽イオン(a)/(b)が1/5〜5/1(モル比)の範囲にあり、かつ、浴のpHが7〜14の範囲にある錫めっき浴又は錫-鉛めっき浴。
請求項（抜粋）：
第一錫源、これとキレートを形成するための錯化剤とを含有し、浴中の無機陰イオンの合計含有量が1.5モル/l以下であり、陽イオンとして(a)アルカリ金属イオン及び/又はアルカリ土類金属イオンと(b)アンモニウムイオン及び/又は有機アミンイオンとを含有し、陽イオン(a)/(b)が1/5〜5/1(モル比)の範囲にあり、かつ、浴のpHが7〜14の範囲にあることを特徴とする錫めっき浴。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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