特許

J-GLOBAL ID：200903067384579828

荷電ビーム転写露光装置

発明者： 守田 憲司
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 渡部 温
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-140458
公開番号（公開出願番号）：特開平11-329947
出願日： 1998年05月08日
公開日（公表日）： 1999年11月30日
要約：

【要約】【課題】 クーロン相互作用に主に起因する転写像のボケを低減できる荷電ビーム転写装置を提供する。【解決手段】 複数の小領域51に分割されて形成されたパターンを有するマスク13を荷電ビームで照明し、マスク13を通過してパターン化された荷電ビームを被露光面上に投影結像させて該パターンを転写する。マスク13上で照明ビームを走査して順次複数のパターン小領域51を照明する。照明ビームのサイズを可変としたことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

複数の小領域に分割されて形成されたパターンを有するマスクを照明光学系を介して成形した荷電ビーム(照明ビーム)で照明し、マスクを通過してパターン化された荷電ビーム(パターンビーム)を投影光学系を介して被露光面上に投影結像させて該パターンを転写する荷電ビーム転写装置であって;マスク上で照明ビームを走査して順次複数のパターン小領域を照明し、被露光面上では、パターン小領域の像を繋ぎ合わせることにより転写すべき全体パターンを被露光面上に形成するものであり、上記照明ビームのサイズを可変としたことを特徴とする荷電ビーム転写露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  H01J 37/305

FI (5件)：

H01L 21/30 541 Q ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 A