ガス処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：前田弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-036995
公開番号（公開出願番号）：特開2003-236332
出願日： 2002年02月14日
公開日（公表日）： 2003年08月26日
要約：

【要約】【課題】吸着部材(2) から脱離した被処理成分を分解するのにプラズマ触媒を用いた空気浄化装置などのガス処理装置(1) において、プラズマ触媒の本来の分解性能を十分に発揮させて、装置(1) の処理能力を高める。【解決手段】吸着部材(2) の再生処理後の再生空気をプラズマ触媒の分解処理に適した温度に冷却した後、該プラズマ触媒での分解処理を行う。

請求項（抜粋）：

被処理ガス中の被処理成分を吸着する吸着部材(2) と、再生ガスを吸着部材(2) に流通させることにより吸着部材(2) から被処理成分を脱離させる再生手段(3) と、吸着部材(2) を通過した再生ガス中の被処理成分を分解する分解手段(4) とを備えたガス処理装置であって、上記分解手段(4) が、放電により低温プラズマを生成するプラズマ生成部(41,42) と、該低温プラズマにより活性化して被処理成分の分解を促進するプラズマ触媒部(43)とを備え、分解手段(4) における処理温度が吸着部材(2) の再生温度よりも低温に設定されるとともに、吸着部材(2) の再生処理後の再生ガスを分解手段(4) の処理温度まで冷却する温度調節手段(5) を備えていることを特徴とするガス処理装置。

IPC (5件)：

B01D 53/32 , B01D 53/06 , B01D 53/86 ZAB , B01J 19/08 , F24F 1/02

FI (5件)：

B01D 53/32 , B01D 53/06 A , B01J 19/08 E , B01D 53/36 ZAB H , F24F 1/02 381 B

Fターム (46件)：

3L051BC10 , 4D012CA10 , 4D012CC03 , 4D012CD01 , 4D012CE01 , 4D012CE03 , 4D012CF04 , 4D012CH05 , 4D012CJ02 , 4D012CJ10 , 4D012CK01 , 4D048AA21 , 4D048AA22 , 4D048AB03 , 4D048BA25X , 4D048BA26X , 4D048BA27X , 4D048BA28X , 4D048BA29X , 4D048BA30X , 4D048BA31X , 4D048BA32X , 4D048BA33X , 4D048BA34X , 4D048BA35X , 4D048BA36X , 4D048BA38X , 4D048BA41X , 4D048CC40 , 4D048CC54 , 4D048CD01 , 4D048CD08 , 4D048DA03 , 4D048DA13 , 4D048DA20 , 4D048EA03 , 4G075AA03 , 4G075AA37 , 4G075AA63 , 4G075BA05 , 4G075BD04 , 4G075CA03 , 4G075CA15 , 4G075CA47 , 4G075DA01 , 4G075EC21

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