特許

J-GLOBAL ID：200903067427494198

印刷用凹版とそれを用いたオフセット印刷方法

発明者： 米元 一成 ,  石川 信行 ,  緑川 理子
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-181253
公開番号（公開出願番号）：特開2001-353973
出願日： 2000年06月16日
公開日（公表日）： 2001年12月25日
要約：

【要約】【課題】 全面均一に形状精度の良好な印刷パターンを印刷可能とする。【解決手段】 印刷用インキ107が充填される凹部からなる実パターン112を有し、この実パターン部112の外周部にダミーパターン120の凹部を形成し、形成された前記ダミーパターン120の凹部は、前記実パターン112の凹部と同一深さであり、後工程で形成される配線ラインパターン位置に配置されている。

請求項（抜粋）：

印刷用インキが充填される凹部からなる実パターンを有し、該実パターンの外周部にダミーパターンの凹部を形成することを特徴とする印刷用凹版。

IPC (5件)：

B41N 1/00 ,  B41M 1/10 ,  B41N 1/06 ,  B41N 1/12 ,  H05K 3/12 630

FI (5件)：

B41N 1/00 ,  B41M 1/10 ,  B41N 1/06 ,  B41N 1/12 ,  H05K 3/12 630 Z

Fターム (14件)：

2H113AA01 ,  2H113AA02 ,  2H113BA03 ,  2H113CA17 ,  2H114AA03 ,  2H114AA08 ,  2H114DA01 ,  2H114DA04 ,  2H114EA04 ,  5E343AA02 ,  5E343BB23 ,  5E343DD02 ,  5E343FF02 ,  5E343GG08