特許

J-GLOBAL ID：200903067447382779

ジメチルエーテルの製造方法

発明者： 庄司 一夫 ,  寺井 聡
出願人/特許権者： 東洋エンジニアリング株式会社
代理人 (3件)： 金田 暢之 ,  伊藤 克博 ,  石橋 政幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-261828
公開番号（公開出願番号）：特開2004-099489
出願日： 2002年09月06日
公開日（公表日）： 2004年04月02日
要約：

【課題】高活性なDME製造触媒を用いた高転化率のDME製造方法を提供する。【解決手段】平均細孔半径が2.5以上8.0nm以下で、ナトリウム酸化物の含有量が0.07質量%以下である活性アルミナ触媒の存在下にメタノールを気相で脱水反応させることを特徴とするジメチルエーテルの製造方法。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

平均細孔半径が2.5nm以上8.0nm以下で、ナトリウム酸化物の含有量が0.07質量%以下である活性アルミナ触媒の存在下にメタノールを気相で脱水反応させることを特徴とするジメチルエーテルの製造方法。

IPC (2件)：

C07C41/09 ,  C07C43/04

FI (2件)：

C07C41/09 ,  C07C43/04 D

Fターム (12件)：

4H006AA02 ,  4H006AC43 ,  4H006BA09 ,  4H006BA30 ,  4H006BA85 ,  4H006BC11 ,  4H006BC13 ,  4H006GN05 ,  4H006GP01 ,  4H006GP30 ,  4H039CA61 ,  4H039CD10

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平3-056433
  
• 特開昭49-031597