特許

J-GLOBAL ID：200903067450773150

薄膜光電変換素子の製造装置

発明者： 清藤 真次 ,  相楽 広 ,  清水 均
出願人/特許権者： 株式会社富士電機総合研究所
代理人 (1件)： 山口 巖
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-120942
公開番号（公開出願番号）：特開平7-326781
出願日： 1994年06月02日
公開日（公表日）： 1995年12月12日
要約：

【要約】【目的】可撓性基板を基板面が鉛直面内にあるようにして搬送し、その上に各層の成膜を行うことは、装置スペースの縮小、メンテナンス作業の容易化の点で有利であるが、基板が下方へずれ、たわみが生ずる問題があるので、それを解決する。【構成】基板を搬送するための送りロールあるいは巻き取りロールに近接してアイドルロールを設置して、送りロールあるいは巻き取りロールの円柱面へ基板が広い面積で密着するようにして下方へのずれを防ぐ。さらには上方が送り室側に向いて傾いた軸をもつロールの円柱面に沿って基板を移動させることにより、下方へのずれの防止をさらに確実にする。

請求項（抜粋）：

送り室から巻き取り室へ回転駆動される搬送ロールと押さえロールとの間を通して面が鉛直面内にあるようにして搬送される可撓性基板の表面上に、一つあるいは複数の成膜室内で基板をはさんで対向する電極間に電圧を印加して成膜するものにおいて、搬送ロールの少なくとも一方の側に、可撓性基板が搬送ロールの円柱面に円周方向に所定の距離だけ密着して通過するように、可撓性基板の搬送方向を円柱面に沿って変える回動自在のロールを備えたことを特徴とする薄膜光電変換素子の製造装置。