特許
J-GLOBAL ID：200903067459825285
ウェーハマップ解析補助システムおよびウェーハマップ解析方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-229734
公開番号（公開出願番号）：特開平11-067853
出願日： 1997年08月26日
公開日（公表日）： 1999年03月09日
要約：
【要約】【課題】 ウェーハに係わる様々な問題を解決するために、ウェーハマップを用いた2次元的な解析を補助する。【解決手段】 画面上に、ウェーハマップの画像を製造工程やデバイスや検査等の項目毎に分類して表示する。ウェーハマップの画像以外に都連トレンドチャートも添付する。
請求項（抜粋）：
半導体製造過程の各段階で得られる複数のウェーハマップに関するマップデータを作成して該マップデータに前記半導体製造過程との関連を示すリンカーを付する観測手段と、前記複数のウェーハマップの各々に関連づけられたテキストデータを入力するための入力手段と、前記半導体製造過程に関する所定のデータと前記観測手段からの前記リンカーが付された前記マップデータと前記入力手段からの前記テキストデータとを記憶するための記憶手段と、前記記憶手段に記憶された前記半導体製造過程に関する前記所定のデータや前記テキストデータに係わる画像を表示することが可能であるとともに、前記記憶手段から前記マップデータを取り出して前記リンカーに従って分類し、前記マップデータに記述されたウェーハマップの画像を分類に従って画面に表示することが可能な画像表示手段とを備える、ウェーハマップ解析補助システム。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/66 A
, H01L 21/02 Z
