特許

J-GLOBAL ID：200903067462911222

垂直磁気記録媒体およびその製造方法、パターンド媒体およびその製造方法

発明者： 竹野入 俊司 ,  酒井 泰志
出願人/特許権者： 富士電機ホールディングス株式会社
代理人 (3件)： 谷 義一 ,  阿部 和夫 ,  橋本 傳一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-193904
公開番号（公開出願番号）：特開2004-039082
出願日： 2002年07月02日
公開日（公表日）： 2004年02月05日
要約：

【課題】垂直磁気記録媒体およびその製造方法、並びにパターンド媒体およびその製造方法に関し、媒体の熱安定性を損なうことなく、耐食性の向上、記録分解能の向上、長寿命化、高記録密度化を図ること。【解決手段】垂直記録媒体は、非磁性基体1上に軟磁性裏打ち層2、下地層3、磁気記録層4、非磁性オーバーコート層5、保護膜6、液体潤滑層7を順次積層されてなり、磁気記録層4は、希土類-遷移金属アモルファス薄膜からなる。非磁性オーバーコート層5は、Si,Ti,Ta、Cr,Mn,Moからなる群から選択された金属と、これらのうちから選択された2種類以上の材料を含んだ合金とからなる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

非磁性基体上に軟磁性裏打ち層、下地層、磁気記録層、非磁性オーバーコート層、保護膜、液体潤滑層を順次積層されてなる垂直記録媒体であって、 前記磁気記録層は、希土類-遷移金属アモルファス薄膜からなることを特徴とする垂直磁気記録媒体。

IPC (6件)：

G11B5/64 ,  G11B5/65 ,  G11B5/72 ,  G11B5/84 ,  H01F10/13 ,  H01F41/34

FI (6件)：

G11B5/64 ,  G11B5/65 ,  G11B5/72 ,  G11B5/84 Z ,  H01F10/13 ,  H01F41/34

Fターム (18件)：

5D006AA02 ,  5D006AA06 ,  5D006BB01 ,  5D006BB07 ,  5D006DA03 ,  5D006DA08 ,  5D006EA03 ,  5D006FA09 ,  5D112AA05 ,  5D112AA07 ,  5D112AA24 ,  5D112BB01 ,  5D112BC07 ,  5D112FB06 ,  5E049AC01 ,  5E049AC05 ,  5E049BA08 ,  5E049DB12