特許
J-GLOBAL ID：200903067467797592
プラズマ処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
河野 登夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-342060
公開番号（公開出願番号）：特開2000-173989
出願日： 1998年12月01日
公開日（公表日）： 2000年06月23日
要約：
【要約】【課題】 反応器の直径が大きくても、装置全体のサイズを可及的に小さくでき、小さなスペースに設置し得、被処理物に入射されるイオンの指向性を改善すると共に、反応器の寿命を長くすることができるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 ブロック部材25の環状マイクロ波窓4に対向する部分に環状導波管型アンテナ部11a が形成してあり、板部材16には複数のスリット15,15,...が開設してある。加熱ブロック26の下面中央に設けた凹部に対向電極18が嵌合してあり、対向電極18は電気的に接地してある。対向電極18の底面には、誘電体を対向電極18の中心軸周りに均等配したパターンになるように堆積することによって、複数の誘導部18a ,18a ,...が形成してあり、相隣る誘導部18a ,18a ,...の間には、扇形の複数の電極部18b ,18b ,...が形成されている。
請求項（抜粋）：
被処理物を載置する載置台が内部に設けてある容器と、前記載置台に対向配置した対向電極と、該対向電極に外嵌した環状のマイクロ波窓と、該マイクロ波窓に対向配置してあり、マイクロ波窓へマイクロ波を放射する環状の導波管型アンテナとを備え、該導波管型アンテナから前記マイクロ波窓を透過させて容器内にマイクロ波を導入してプラズマを生成すると共に前記載置台に高周波を印加し、生成したプラズマによって前記被処理物を処理する装置であって、前記対向電極の載置台に対向する面に、容器内に導入されたマイクロ波を誘導する誘導部が設けてあることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/302 B
, H05H 1/46 B
5F004AA16
, 5F004BA04
, 5F004BA09
, 5F004BB11
, 5F004BB13
, 5F004BB14
, 5F004BB18
, 5F004BB28
, 5F004BB29
, 5F004BB30
, 5F004BC08
, 5F004BD01
