特許
J-GLOBAL ID:200903067494825182

洗浄ノズルとこれを用いた基板洗浄装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 則近 憲佑
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-106290
公開番号(公開出願番号):特開平6-320099
出願日: 1993年05月07日
公開日(公表日): 1994年11月22日
要約:
【要約】【目的】 従来のガラス基板等の基板洗浄に使用される基板洗浄装置は、例えば、LCD用ガラス基板へのレジスト塗布後の基板の端縁部の洗浄において、余剰洗浄液吸引装置により吸引しきれない洗浄液の霧が発生してしまう。この霧が、基板表面に付着することによって、付着部分のレジストが溶解してしまい、製品の歩留まりが低下するという問題があった。本発明は、有機溶剤の霧が基板表面に付着しない洗浄ノズル及びこれを用いた基板洗浄装置を提供することを目的とする。【構成】 本発明による洗浄ノズルは、被洗浄物の基板の端縁部に向かって洗浄液を吐出する洗浄液吐出孔部と、この洗浄液吐出孔部と隣接して、前記洗浄液吐出孔部と前記基板の間に気体噴出孔部とを具備していることを特徴とする。また、本発明による基板洗浄装置は、前記洗浄ノズルと、この洗浄ノズルが被洗浄物の端縁部に沿って移動自在な移動装置と、前記移動装置に沿って配設され余剰洗浄液分を吸引する余剰洗浄液吸引装置とを具備することを特徴とする。
請求項(抜粋):
被洗浄物の基板の端縁部に向かって洗浄液を吐出する洗浄液吐出孔部と、この洗浄液吐出孔部と隣接して、前記洗浄液吐出孔部と前記基板の間に気体噴出孔部とを具備した洗浄ノズル。
IPC (3件):
B05C 11/08 ,  B05C 9/12 ,  B08B 3/02

前のページに戻る