特許
J-GLOBAL ID:200903067499800110
Tl系酸化物超電導線材およびその製法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高橋 明夫 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-263546
公開番号(公開出願番号):特開平7-122128
出願日: 1993年10月21日
公開日(公表日): 1995年05月12日
要約:
【要約】【構成】基材上にTl系酸化物超電導体層が形成され、その上に空隙率が5〜50%の被覆層が設けられているTl系酸化物超電導線材である。【効果】超電導特性が優れた、被覆層を有するTl系酸化物超電導線材を得ることができ、該線材は経時劣化が少ない。
請求項(抜粋):
基材上にTl系酸化物超電導体層が形成され、その上に空隙率が5〜50%の被覆層が設けられていることを特徴とするTl系酸化物超電導線材。
IPC (6件):
H01B 12/06 ZAA
, C01G 1/00
, C01G 15/00 ZAA
, C23C 4/10
, C30B 29/22 501
, H01B 13/00 565
引用特許:
審査官引用 (3件)
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特開平2-275779
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特開平3-103321
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特開平4-300202
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