特許
J-GLOBAL ID：200903067517934324
含フッ素ブロック共重合体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 勝利
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-069943
公開番号（公開出願番号）：特開平6-279555
出願日： 1993年03月29日
公開日（公表日）： 1994年10月04日
要約：
【要約】【目的】高度な耐候性や耐汚染性を発現する含フッ素ブロック共重合体を、合成条件上の制限がなく簡便に得る製造方法を提供する。【構成】本発明は、高分子鎖の一方または両方の末端に、【化1】で示される構造を含む、波長200から450nmの光を照射することによって光重合を開始できる末端官能基を有する化合物の存在下に、含フッ素ビニル単量体を必須の単量体とするビニル単量体混合物を重合させてなる、含フッ素ブロック共重合体の合成方法に関する。【効果】本発明の含フッ素ブロック共重合体の合成法は、合成時における反応条件の制限が非常に少なく、また合成できる含フッ素ブロック共重合体の高分子セグメントの組み合わせ自由度が非常に高い。また合成される含フッ素ブロック共重合体は耐汚染性に優れるなどの高度な性質を有し、また他の樹脂にそれを付与することができる。
請求項（抜粋）：
高分子鎖の一方または両方の末端に、波長200から450nmの光を照射することによって光重合を開始できる末端官能基を有する化合物(I)の存在下に、含フッ素ビニル単量体(II)を必須の単量体として光重合させることを特徴とする含フッ素ブロック共重合体の製造方法。
IPC (2件)：
C08F293/00 MRC
, C08F 2/50 MDS
