特許
J-GLOBAL ID：200903067525624393

光学系

発明者：
今村文美

今村文美 について


出願人/特許権者：
オリンパス光学工業株式会社

オリンパス光学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 韮澤 弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-005681
公開番号（公開出願番号）：特開平11-202111
出願日： 1998年01月14日
公開日（公表日）： 1999年07月30日
要約：
【要約】【課題】 回折面上に保護層を設けても像の質が低下するのを防ぎ、さらに、不要次数光の影響を抑えて、高い像の質を得ることができる光学系。【解決手段】 帯域光が入射する光学系であり、レリーフ型回折光学素子2と、このレリーフ型回折光学素子2に入射するかレリーフ型回折光学素子2を経た光の波長帯域を制限する手段3とを有し、レリーフ型回折光学素子2は、表面にレリーフ形状を有する光学部材4と、その光学部材4とは異なる材料からなり、光学部材4の表面上に形成された保護層5とを有する。
請求項（抜粋）：
帯域光が入射する光学系において、前記光学系は、レリーフ型回折光学素子と、このレリーフ型回折光学素子に入射する、あるいは、レリーフ型回折光学素子を経た光の波長帯域を制限する手段とを有し、該レリーフ型回折光学素子は、表面にレリーフ形状を有する光学部材と、該光学部材とは異なる材料からなり、前記光学部材の表面上に形成された保護層とを有することを特徴とする光学系。
IPC (2件)：
G02B 5/18 ,  G02B 3/08
FI (2件)：
G02B 5/18 ,  G02B 3/08
引用特許：
出願人引用 (11件)
全件表示
審査官引用 (15件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM