特許
J-GLOBAL ID：200903067526860627
基板上への着色パターンの形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-176024
公開番号（公開出願番号）：特開平10-016396
出願日： 1996年07月05日
公開日（公表日）： 1998年01月20日
要約：
【要約】【課題】 平坦化研磨工程を省略でき、加工精度、平坦性に優れ、研磨時のコンタミネーションの問題がない着色パターンを安定して形成できる方法を得る。【解決手段】 (1)基板上に第1の着色塗膜を形成し、該第1の着色塗膜の上に剥離層を形成する工程、(2)該第1の着色塗膜及び該剥離層にレーザーアブレージョン法によりパターン状に着色塗膜及び剥離層を除去する工程、(3)必要に応じて、工程(2)で得られた基板上に、異なる色の着色塗膜及び該着色塗膜上に剥離層を形成し、レーザーアブレージョン法によりパターン状に着色塗膜及び剥離層を除去する工程を1回以上繰り返す工程、(4)工程(2)又は(3)で得られた基板上に、異なる色の着色塗膜を形成する工程、及び(5)剥離層上の不要な着色塗膜及び剥離層を、剥離、除去する工程、を有する着色パターンの形成方法。
請求項（抜粋）：
(1)基板上に第1の着色塗膜を形成し、該第1の着色塗膜の上に剥離層を形成する工程、(2)該第1の着色塗膜及び該剥離層にレーザーアブレージョン法によりレーザー光をパターン状に照射してレーザー光照射部の着色塗膜及び剥離層を除去する工程、(3)必要に応じて、上記工程(2)で得られた基板上に、形成された着色塗膜と異なる色の着色塗膜及び該着色塗膜上に剥離層を形成し、レーザーアブレージョン法によりレーザー光をパターン状に照射してレーザー光照射部の着色塗膜及び剥離層を除去し、所定パターン形状の、該異なる色の着色塗膜及び剥離層を形成することを1回以上繰り返す(2回以上繰り返す場合には、該異なる色の着色塗膜のそれぞれの色は互いに異なる色である)工程、(4)上記工程(2)又は(3)で得られた基板上に、形成された着色塗膜のいずれとも異なる色の着色塗膜を形成する工程、及び(5)剥離層上の不要な着色塗膜及び剥離層を、剥離層を溶解させることにより剥離、除去する工程、を有する着色パターンの形成方法。
IPC (5件)：
B41M 5/26
, G02B 5/20 101
, G03F 7/105 502
, G03F 7/11 501
, G03F 7/36
B41M 5/26 S
, G02B 5/20 101
, G03F 7/105 502
, G03F 7/11 501
, G03F 7/36
