特許

J-GLOBAL ID：200903067526940442

炭素単層構造を骨格とする単層および積層単離膜

発明者： 平田 益一 ,  堀内 繁雄
出願人/特許権者： 三菱瓦斯化学株式会社
代理人 (1件)： 社本 一夫 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-219628
公開番号（公開出願番号）：特開2003-034512
出願日： 2001年07月19日
公開日（公表日）： 2003年02月07日
要約：

【要約】【課題】 炭素単層構造を骨格として少量の酸素が結合した、構造、物性の明らかな高機能極薄単離膜を提供する。【解決手段】上記の課題の解決のために、次の方法を開発した:1)原料である黒鉛に、溶液内で酸化処理を施す。2)得られた酸化黒鉛に層間分離の処理を施す。3)分散液中の粒子を、メッシュの上に液ごと載せて乾燥し、単離した薄膜を得る。4)本膜を透過型電子顕微鏡により像、電子回折図形および電子エネルギー損失分光法スペクトルを観察、解析し、従来にない新しい構造と組成を有する極薄単離膜が生成していることを確認する。

請求項（抜粋）：

黒鉛を酸化剤溶液内で酸化し、層間分離することによって得られる、炭素単層構造を骨格として、全体の1〜30wt%の酸素がその骨格に結合した、厚さが約0.4nmで広がり方向の大きさが20nm以上の単層単離膜。

IPC (2件)：

C01B 31/00 ,  C01B 31/04 101

FI (2件)：

C01B 31/00 ,  C01B 31/04 101 B

Fターム (5件)：

4G046AA08 ,  4G046AB01 ,  4G046EA06 ,  4G046EC02 ,  4G046EC03