特許
J-GLOBAL ID：200903067531139634
パターン検査方法及びその装置並びに半導体ウエハの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 明夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-245161
公開番号（公開出願番号）：特開平10-089931
出願日： 1996年09月17日
公開日（公表日）： 1998年04月10日
要約：
【要約】【課題】二次元的な繰返し性を有する場所とX方向,Y方向のみの繰返し性を有する部分が混在しているパターンが複数ある対象物の検査において、簡便な座標指定で欠陥を検出する。【解決手段】着目点101と繰返しピッチだけ離れた例えば102a〜102dの比較点との十字比較を行い、何れとも差がある部分のみを欠陥候補として抽出する。これにより、二次元的な繰返し部分、X方向、またはY方向にのみ繰返し性を有する場所も検査可能とする。孤立点などのX方向およびY方向の何れにも繰返し性を有しない部分が欠陥候補として抽出されるが、複数の被検査対象物で規則的に欠陥候補を生じる場合には欠陥としないことにより、これらを排除し、真の欠陥を判定する。
請求項（抜粋）：
被検査対象物の物理量を2次元の画像信号として検出し、該検出された2次元の画像信号を2次元のデジタル画像信号に変換し、該変換された2次元のデジタル画像信号における着目点のデジタル画像信号と該着目点のパターンに対して同一なパターンであることが期待されるX方法及びY方向からなる複数の比較点の参照画像信号の各々とを比較して着目点のデジタル画像信号といずれの比較点のデジタル画像信号との間に差がある場合には欠陥候補または欠陥として抽出することを特徴とするパターン検査方法。
IPC (3件)：
G01B 11/24
, G06T 7/00
, H01L 21/66
G01B 11/24 F
, H01L 21/66 J
, G06F 15/62 405 A
