特許

J-GLOBAL ID：200903067548700283

照射室開放型X線分析装置

発明者： 谷口 一雄 ,  迫 幸雄
出願人/特許権者： 理学電機工業株式会社
代理人 (1件)： 杉本 修司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-026408
公開番号（公開出願番号）：特開平10-221276
出願日： 1997年02月10日
公開日（公表日）： 1998年08月21日
要約：

【要約】【課題】 照射窓に試料がない場合に誤ってX線が照射されるのを確実に防止できる照射室開放型X線分析装置を提供する。【解決手段】 試料3に1次X線1を照射するX線源4と、試料3からの2次X線2を検出する検出器5とが照射室6に収納され、この照射室6を形成するケース7に開口する照射窓8が、照射室6の外方に位置する試料3によって覆われる構成とした照射室開放型X線分析装置において、検出器5で検出されたX線の強度が所定レベル以上であることを判別する判別手段20と、X線検出強度が所定レベル以上であるときX線源4から試料3への照射を継続させる保持手段24とを設ける。

請求項（抜粋）：

試料に1次X線を照射するX線源と、前記試料からの2次X線を検出する検出器とが照射室に収納され、この照射室を形成するケースに開口した照射窓が、前記照射室の外方に位置する前記試料によって覆われるX線分析装置において、前記検出器で検出されたX線の強度が所定レベル以上であることを判別する判別手段と、前記強度が所定レベル以上であるとき前記X線源から試料への照射を継続させる保持手段とを備えた照射室開放型X線分析装置。