特許
J-GLOBAL ID:200903067551549987

電解槽の底部に沈殿した固形物の処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 香取 孝雄
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-505367
公開番号(公開出願番号):特表2003-502510
出願日: 2000年05月30日
公開日(公表日): 2003年01月21日
要約:
【要約】電解槽の底部に沈殿した固形物の処理装置。この装置は、電解槽(1)の底部(5)に実質的に沿って、もしくはその付近で移動可能な回収装置エレメント(11)を有し、この回収装置エレメント(11)には固形物の残分から粗粒子を分離する手段(12、14)が設けられている。
請求項(抜粋):
実質的に電解槽(1)の底部(5)に沿って、もしくはその付近で移動可能な回収装置エレメント(11)を含み、該回収装置エレメント(11) には粗粒子を固形物の残分から分離する手段(12、14)が設けられていることを特徴とする電解槽の底部に沈殿した固形物の処理装置。
Fターム (8件):
4K058AA10 ,  4K058AA21 ,  4K058AA30 ,  4K058BA17 ,  4K058BA21 ,  4K058BA25 ,  4K058FA01 ,  4K058FC27

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