特許
J-GLOBAL ID：200903067553807746
三角溝及び光学素子の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤本 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-050197
公開番号（公開出願番号）：特開2004-258423
出願日： 2003年02月27日
公開日（公表日）： 2004年09月16日
要約：
【課題】形状精度に優れる三角溝、特に溝頂点部に形状異常が発生しにくい三角溝の製造方法の開発【解決手段】光の照射形状を規制する光透過部を形成する投影マスクを介した光照射で高分子膜を部分的にエッチングして高分子膜に三角形の断面を具備する凹部を形成するにあたり光透過部が閉塞する前にエッチングを停止する製造方法、その製造方法による三角溝を形成する操作を繰り返して高分子膜の片面に複数の三角溝をブレーズド回折格子や光出射手段などの光学機能を示す状態に分布させる光学素子の製造方法、その光学素子の三角溝を分布させた面形状を写した金型を得てその面形状を高分子層に転写する光学素子の製造方法。【効果】急斜面を伴う三角溝をマスク固定方式等で形成する場合にも溝頂点に異常エッチングによる異常形状が発生しにくい【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
光の照射形状を規制する光透過部を形成する投影マスクを介した光照射で高分子膜を部分的にエッチングして高分子膜に三角形の断面を具備する凹部を形成するにあたり、前記投影マスクによる光透過部を2枚以上の部分マスクで形成してそれら部分マスクの内の、当該形成目的の凹部における対向する一対の辺を形成する部分マスクを当該光透過部が凹部形成開始の開状態から閉塞する方向に移動させて、高分子膜に凹部における斜面を形成するものであり、かつその斜面形成の際に当該光透過部が閉塞する前にエッチングを停止することを特徴とする三角溝の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (15件)：
2H049AA03
, 2H049AA07
, 2H049AA13
, 2H049AA31
, 2H049AA33
, 2H049AA37
, 2H049AA40
, 2H049AA59
, 2H049AA62
, 2H049AA63
, 5F072AA06
, 5F072KK30
, 5F072MM09
, 5F072RR05
, 5F072YY06
