特許

J-GLOBAL ID：200903067554194292

有機ケイ素重合体およびレジスト組成物

発明者： 渡部 慶二 ,  矢野 映 ,  並木 崇久 ,  福田 麻奈美
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 青木 朗 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-284841
公開番号（公開出願番号）：特開平5-117392
出願日： 1991年10月30日
公開日（公表日）： 1993年05月14日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 二層構造レジストの上層レジストとして使用した時、十分な酸素プラズマ耐性を有しており、また感度及び解像性に優れたポジ型レジストおよびこれに使用できる有機ケイ素重合体を提供する。【構成】 次式(1):〔Si2R1 O3 〕m 〔(R2)3 SiO1/2 〕n ...(1)〔式中、m,nは正の整数であり、m/n=90/10〜10/90、R1 R2は同一もしくは異なっていてもよく、C1 〜C10のアルキレンを示し、次式(2)等の(R3 は低級アルキル基あるいはアリール基を示す)、低級アルキル基またはアリール基を示し、R2 のうち少なくとも全体の20%以上が次式(3)等(R3 は前記定義に同じ)、である〕で示される重量平均分子量1,000〜5,000,000の有機ケイ素重合体を構成し、更に該有機ケイ素重合体と一定の溶解抑制剤と、酸発生剤のオニウム塩と、有機溶剤とを含むようにレジスト組成物を構成する。

請求項（抜粋）：

次式1:〔Si2R1 O3 〕m 〔(R2)3 SiO1/2 〕n ...(1)〔式中、m,nは正の整数であり、m/n=90/10〜10/90、R1 は同一もしくは異なっていてもよく、C1 〜C10のアルキレンを示し、R2 は同一もしくは異なっていてもよく、【化1】【化2】(R3 は低級アルキル基あるいはアリール基を示す)、【化3】低級アルキル基またはアリール基を示し、R2 のうち少なくとも全体の20%以上が【化4】【化5】(R3 は前記定義に同じ)、または【化6】である〕で示される重量平均分子量1,000〜5,000,000の有機ケイ素重合体。

IPC (7件)：

C08G 77/00 NTZ ,  C08L 83/04 LRZ ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/075 511 ,  G03F 7/26 511 ,  H01L 21/027