特許

J-GLOBAL ID：200903067566036382

回転洗浄方法および洗浄装置

発明者： 鈴木 啓太
出願人/特許権者： ソニー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-177627
公開番号（公開出願番号）：特開2001-007067
出願日： 1999年06月24日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
要約：

【要約】【課題】 半導体装置洗浄の際に低回転で被洗浄物のダスト除去が可能な回転洗浄方法および洗浄装置を提供する。【解決手段】 被洗浄物7を回転させながらこの被洗浄物7上に洗浄液を供給して非接触で洗浄を行う回転洗浄方法において、前記洗浄液の酸化還元電位を低くするためのプロセスと、前記洗浄液に超音波を添加するプロセスを有し、前記被洗浄物を20rpm以上50rpm以下の回転数で回転させた。

請求項（抜粋）：

被洗浄物を回転させながらこの被洗浄物上に洗浄液を供給して非接触で洗浄を行う回転洗浄方法において、前記洗浄液の酸化還元電位を低くするためのプロセスと、前記洗浄液に超音波を添加するプロセスを有し、前記被洗浄物を20rpm以上50rpm以下の回転数で回転させることを特徴とする回転洗浄方法。

IPC (5件)：

H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 647 ,  B08B 3/12 ,  C02F 1/36 ,  C02F 1/70 ZAB

FI (5件)：

H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 647 Z ,  B08B 3/12 C ,  C02F 1/36 ,  C02F 1/70 ZAB Z

Fターム (21件)：

3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201AB34 ,  3B201AB47 ,  3B201BB33 ,  3B201BB44 ,  3B201BB85 ,  3B201BB93 ,  3B201CB01 ,  3B201CC01 ,  3B201CC13 ,  3B201CC21 ,  4D037AA01 ,  4D037AB02 ,  4D037BA26 ,  4D037BB07 ,  4D037CA09 ,  4D050AA08 ,  4D050AB07 ,  4D050BA14 ,  4D050BD03