特許
J-GLOBAL ID:200903067575295455

欠陥検査装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 本庄 武男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-209126
公開番号(公開出願番号):特開2000-046743
出願日: 1998年07月24日
公開日(公表日): 2000年02月18日
要約:
【要約】【課題】 回転させられるウェーハに検査光を照射して,欠陥からの散乱光を撮像し,画像処理によりウェーハの欠陥を検査する従来の欠陥検査装置では,ウェーハのスライス時に生じた特定方向の鋸痕により影が生じ,欠陥が検出できない恐れがあった。【解決手段】 本発明は,特定方向の凹凸が形成されたウェーハに対して上記特定方向から平行に検査光を照射することにより,上記凹凸の陰影を解消し,欠陥の検査精度を向上させることを図ったものである。
請求項(抜粋):
特定方向に凹凸が形成されたウェーハが載置され,ウェーハをその面内で回転させる回転手段と,上記回転手段により回転させられるウェーハに対して検査光を照射する検査光照射手段と,上記検査光照射手段により検査光が照射されたウェーハを撮像する撮像手段と,上記撮像手段により撮像された撮像画像に基づいてウェーハの欠陥を検査する検査手段とを具備してなる欠陥検査装置において,上記回転手段により回転させられるウェーハの回転角度を検出する回転角度検出手段と,上記回転角度検出手段により検出されたウェーハの回転角度に基づいて上記検査光照射手段の上記検査光の照射方向を調整する照射方向調整手段と,上記特定方向と平行な方向から上記検査光をウェーハに照射するように上記照明方向調整手段を制御する制御手段とを具備してなることを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (2件):
G01N 21/88 ,  G01B 11/30
FI (2件):
G01N 21/88 E ,  G01B 11/30 D
Fターム (36件):
2F065AA49 ,  2F065AA61 ,  2F065BB01 ,  2F065CC19 ,  2F065DD11 ,  2F065FF04 ,  2F065FF41 ,  2F065FF65 ,  2F065GG07 ,  2F065GG15 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ05 ,  2F065MM04 ,  2F065NN00 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ16 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ31 ,  2F065TT02 ,  2G051AA51 ,  2G051AB02 ,  2G051BA01 ,  2G051BA20 ,  2G051CA03 ,  2G051CA04 ,  2G051CA07 ,  2G051CB06 ,  2G051DA07 ,  2G051DA08 ,  2G051EA08 ,  2G051EA14 ,  2G051EB01 ,  2G051EB02 ,  2G051EC02 ,  2G051EC03

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