特許
J-GLOBAL ID：200903067583132760
プラズマ放電及びフィルタを用いた殺菌・汚染除去システム
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (2件)：
酒井 一
, 蔵合 正博
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-563603
公開番号（公開出願番号）：特表2005-515843
出願日： 2002年11月04日
公開日（公表日）： 2005年06月02日
要約：
非熱プラズマ放電装置がサスペンション媒体(フィルタ、静電集塵器、カーボンベッド等)の上流に配置された殺菌・汚染除去システム。このプラズマ放電装置はプラズマを生成し、プラズマは第一の誘電体のアパチャ(キャピラリーやスリット等)を通って放射される。プラズマ生成殺菌活性種は、汚染物質や好ましくない粒子状物質にさらされると、汚染された流体流に含まれる及び/又は物体上にあるこのような物質を不活性化或いは低減することができる。従って、処理対象流体中の好ましくない汚染物質はまず、放電装置のプラズマ領域内においてプラズマ生成殺菌活性種にさらされている間に低減される。更に、プラズマ生成殺菌活性種は、下流のサスペンション媒体に運ばれ、この媒体と接触するとサスペンション媒体自体に捕集された汚染物質を不活性化する。サスペンション媒体はinsituで清浄化することができ有利である。殺菌効率を更に高めるため、添加剤ガス/自由ガス/キャリアガス(アルコール、水、乾燥空気等)を、第一の誘電体に設けたアパチャに注入してもよい。これら添加剤は、生成された好ましくないオゾン性汚染物質の副生成物を低減すると共に、プラズマ生成殺菌活性剤の濃度を高める。フィルタの下流において、流体流を触媒媒体や付加的なサスペンション媒体にさらすことにより更に処理して、好ましくない粒子状物質の量を更に低減させることもできる。
請求項（抜粋）：
殺菌・汚染除去システムであって、
プラズマ放電を通過させる少なくとも一個のアパチャを設けた第一の誘電体を有するプラズマ放電装置と、
プラズマ放電装置の下流に配置したサスペンション媒体と
を含む、殺菌・汚染除去システム。
IPC (3件)：
A61L9/22
, A61L9/16
, H05H1/24
A61L9/22
, A61L9/16 F
, H05H1/24
4C080AA06
, 4C080AA09
, 4C080BB05
, 4C080HH02
, 4C080MM15
