特許
J-GLOBAL ID：200903067598331858
ウエハ洗浄装置及びウエハ洗浄方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-287475
公開番号（公開出願番号）：特開2000-114218
出願日： 1998年10月09日
公開日（公表日）： 2000年04月21日
要約：
【要約】【課題】 オーバーフロー状態の洗浄液から洗浄槽の底面を上昇させてウエハを露出させる場合、ウエハの振動による摩擦でパーティクルが発生する。【解決手段】 ウエハWが収納される洗浄槽2と、洗浄槽2に接続された洗浄液供給管3とを備えたウエハ洗浄装置1において、洗浄槽2の周壁21は、洗浄槽2内に収納されたウエハWの上端よりも高い位置からウエハWの下短よりも低い位置に掛けてその上縁が移動する範囲で上下動自在に構成されていることを特徴としている。そして、洗浄槽2の周壁21を下降させた状態で、ウエハWを洗浄槽2の底面上に載置する。洗浄槽2の周壁21を上昇させると共に洗浄槽2内に洗浄液Lを供給し、ウエハWを洗浄液L中に侵漬する。洗浄槽2の周壁21を下降させることで、洗浄槽2の周壁21上方から洗浄液Lをオーバーフロー排液すると共に、ウエハWを洗浄液Lの液面から露出させる。
請求項（抜粋）：
ウエハが収納される洗浄槽と、当該洗浄槽に接続された洗浄液供給管とを備えたウエハ洗浄装置において、前記洗浄槽の周壁は、当該洗浄槽内に収納されたウエハの上端よりも高い位置から当該ウエハの上端よりも低い位置に掛けてその上縁が移動する範囲で上下動自在に構成されていることを特徴とするウエハ洗浄装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 642
, H01L 21/304 651
H01L 21/304 642 A
, H01L 21/304 651 H
