特許
J-GLOBAL ID：200903067598675140
2重コイルを用いた多段コイルを有するプラズマ処理装置及び方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-322723
公開番号（公開出願番号）：特開平9-161993
出願日： 1995年12月12日
公開日（公表日）： 1997年06月20日
要約：
【要約】【課題】磁場プロファイル(すなわち、磁力線分布、等磁場強度面分布等)の広範囲の制御性について配慮されていなかった。多段コイルの各々のコイルは、一重のコイルで構成されていたため、磁場プロファイルを広範囲に制御することができず、高密度プラズマの生成および高均一のプラズマの生成が容易でないという課題があった。【解決手段】磁場を利用したプラズマ処理装置において、磁場発生用の多段コイルの各段のコイルのうち、少なくとも1段のコイルに、2重コイルを使用するように構成した。
請求項（抜粋）：
磁場を利用したプラズマ発生装置と減圧可能な処理室とガス供給装置と真空排気装置より成るプラズマ処理装置において、少なくとも1つの2重コイルを用いた多段コイルを有することを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (5件)：
H05H 1/46
, C23C 16/50
, C23F 4/00
, H01L 21/205
, H01L 21/3065
H05H 1/46 L
, C23C 16/50
, C23F 4/00 G
, C23F 4/00 D
, H01L 21/205
, H01L 21/302 B
