特許
J-GLOBAL ID：200903067612299644
電子ビーム描画評価方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
則近 憲佑
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-195710
公開番号（公開出願番号）：特開平7-050248
出願日： 1993年08月06日
公開日（公表日）： 1995年02月21日
要約：
【要約】【目的】 可変成形ビーム方式の電子ビーム描画装置において、矩形ビームの描画精度の劣化要因を短時間で容易に分類評価することができる電子ビーム描画評価方法を提供する。【構成】 順次異なる長さの矩形ビームをつなぎ合わせることにより形成した縦線および横線パターンと、分割した同一幅の矩形ビームを組み合わせ、さらにこの幅を順次変化させていくことにより形成した縦線および横線パターンの、パターン形状を観察することにより評価するものである。
請求項（抜粋）：
所定の開孔形状を有するアパーチャマスクに電子ビームを照射することにより前記開孔形状のビームを成形し、これによって被処理基板上に描画されたパターンを評価する電子ビーム描画評価方法において、評価パターンとして、順次異なる長さの矩形ビームをつなぎ合わせることにより形成した縦線および横線パターンと、分割した同一幅の矩形ビームを組み合わせ、さらにこの幅を順次変化させていくことにより形成した縦線および横線パターンの、パターン形状を観察することにより、矩形ビームの精度劣化要因を分類評価できるようにしたことを特徴とする電子ビーム描画評価方法。
FI (2件)：
H01L 21/30 541 Q
, H01L 21/30 502 V
