特許

J-GLOBAL ID：200903067627110840

ネガ型画像記録材料

発明者： 青島 桂太郎
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 中島 淳 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-073553
公開番号（公開出願番号）：特開平10-268517
出願日： 1997年03月26日
公開日（公表日）： 1998年10月09日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 デジタルデータから直接製版可能であり、さらに、膜強度を損なうことなく現像時間を短縮できるネガ型画像記録材料を提供する。【解決手段】 (A)下記一般式(I)で表される構成単位を有するポリマーと、(B)酸により架橋する化合物と、(C)光又は熱により分解してスルホン酸等の酸を発生させる化合物と、(D)赤外線吸収剤、(E)下記一般式(II)で表されるスルホンアミド基を有する低分子化合物とを含む。下記式中、X1 は、それ自体アルカリ可溶性を示すか、又は、アルカリ可溶性基を有する連結基を示す。

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(I)で表される構成単位を有するポリマーと、(B)酸により架橋する化合物と、(C)光又は熱により酸を発生させる化合物と、(D)赤外線吸収剤、(E)下記一般式(II)で表されるスルホンアミド基を有する低分子化合物とを含むことを特徴とするネガ型画像記録材料。【化1】式中、X1 は、それ自体アルカリ可溶性を示すか、又は、アルカリ可溶性基を有する連結基を示す。Ar1 は、置換基を有していてもよい炭素数20個以下の芳香族炭化水素基を示す。Y1 は、N-R3 、酸素原子又は硫黄原子を示す。nは1〜4の整数を示す。L1 は、単結合、エステル結合、カルボン酸アミド結合、スルホン酸アミド結合、エーテル結合、チオエーテル結合又はこれらの結合を含有していてもよい炭素数20以下の炭化水素基を示す。L2 は、単結合又は炭素数20以下の炭化水素基を示す。R1 は、水素原子又はメチル基を示す。R2は、置換基を有していてもよい炭素数20個以下の炭化水素基を示す。R3 は、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数20個以下の炭化水素基を示す。【化2】式中、R24は置換基を有していてもよい炭素数20以下の炭化水素基を示し、R25は水素原子、置換基を有していてもよい炭素数20以下の炭化水素基又は-COR26を示し、R26は置換基を有していてもよい炭素数20以下の炭化水素基を示す。

IPC (6件)：

G03F 7/038 ,  B41C 1/055 501 ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 506 ,  G03F 7/033

FI (6件)：

G03F 7/038 ,  B41C 1/055 501 ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/004 503 Z ,  G03F 7/004 506 ,  G03F 7/033