特許
J-GLOBAL ID：200903067627463165
光導波路の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-097721
公開番号（公開出願番号）：特開2007-271948
出願日： 2006年03月31日
公開日（公表日）： 2007年10月18日
要約：
【課題】1.383μm吸収帯を有するガラス膜中のOH基を低減し、幅広い波長帯で使用可能な光導波路の製造方法を提供する。【解決手段】基板上に、屈折率が高い石英系ガラスからなるコアを形成し、そのコアをコアよりも屈折率が低い石英系ガラスからなるクラッドで覆って光導波路を製造する方法において、基板上に、トリメトキシシラン、テトラメチルオルソシリケートのうち少なくともいずれか一方とドーパント材料を用いて、プラズマCVD法によりコアを堆積形成した後、トリメトキシシラン、テトラメチルオルソシリケートのうち少なくともいずれか一方を用いて、プラズマCVD法により上記基板と上記コアを覆うようにクラッド層を堆積形成して光導波路を形成する方法である。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
基板上に、屈折率が高い石英系ガラスからなるコアを形成し、そのコアをコアよりも屈折率が低い石英系ガラスからなるクラッドで覆って光導波路を製造する方法において、基板上に、トリメトキシシラン、テトラメチルオルソシリケートのうち少なくともいずれか一方とドーパント材料を用いて、プラズマCVD法によりコアを堆積形成した後、トリメトキシシラン、テトラメチルオルソシリケートのうち少なくともいずれか一方を用いて、プラズマCVD法により上記基板と上記コアを覆うようにクラッド層を堆積形成して光導波路を形成することを特徴とする光導波路の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (9件)：
2H147EA13C
, 2H147EA14A
, 2H147EA14B
, 2H147EA14C
, 2H147EA34A
, 2H147EA35A
, 2H147EA36A
, 2H147FA05
, 2H147GA19
