特許
J-GLOBAL ID：200903067628133665
テキスチャ装置およびテキスチャ加工方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡田 数彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-346783
公開番号（公開出願番号）：特開平8-224676
出願日： 1995年12月13日
公開日（公表日）： 1996年09月03日
要約：
【要約】【課題】レーザビームを利用し、加工生産性の向上を図ったテキスチャ装置を提供する。【解決手段】磁気ディスク基板の製造過程で使用するテキスチャ装置であって、基板(11)を保持し回転可能な基板回転機構(10)、レーザビーム発振器(1)、当該発振器からのレーザビームをON/OFF制御する変調器(2)、当該変調器からのレーザビームを偏向する偏向器(12)、当該偏向器からの偏向レーザビームを前記基板回転機構(10)にて回転支持された基板(11)表面に照射する集光機構(9)を備えて成る。
請求項（抜粋）：
磁気ディスク基板の製造過程で使用するテキスチャ装置であって、基板を保持し回転可能な基板回転機構、レーザビーム発振器、当該発振器からのレーザビームをON/OFF制御する変調器、当該変調器からのレーザビームを偏向する偏向器、当該偏向器からの偏向レーザビームを前記基板回転機構にて回転支持された基板表面に照射する集光機構を備えて成ることを特徴とするテキスチャ装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
B23K 26/00 H
, B23K 26/00 N
, G11B 5/84 A
