特許
J-GLOBAL ID:200903067630596311

成膜装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高田 幸彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-113358
公開番号(公開出願番号):特開平5-315421
出願日: 1992年05月06日
公開日(公表日): 1993年11月26日
要約:
【要約】【構成】成膜装置において、励起源(レーザ16)からの光11をウエハ7に照射し、脱離ガス13を質量分析計18で検出する。【効果】短時間で、正確にウエハの吸着ガスの種類と量を求めることができ、成膜上望ましくない吸着ガスが完全に取り除かれ、不純物の少ない良質の膜を作成することができる。
請求項(抜粋):
成膜装置において、ウエハ上のガスを脱離させるための励起源と、前記ウエハから脱離してきたガスの分析装置を設けたことを特徴とする成膜装置。
IPC (2件):
H01L 21/66 ,  G01N 1/22

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