特許

J-GLOBAL ID：200903067639930176

露光装置及び露光方法

発明者： 長谷川 雅宣
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-273733
公開番号（公開出願番号）：特開2002-083761
出願日： 2000年09月08日
公開日（公表日）： 2002年03月22日
要約：

【要約】【課題】 既存の露光装置の解像限界を越えた解像力を既存の露光装置製造技術で製造した露光装置により達成する。【解決手段】 照射履歴を実質的に有さない特性のレジストを用いて微細パターンを形成するために、第1マスク3と第2マスク4を相対的に走査する機構5,5’と、該第1マスク3及び第2マスク4の相対位置を高精度に検出する位置検出手段であるアライメント/フォーカス計測装置30,30’と、このアライメント/フォーカス計測装置30,30’の出力に基づいて該第1マスク3及び第2マスク4の相対位置を高精度に制御する制御手段とを有し、走査する機構5,5’は、第1マスク3を第2マスク4に対して2次元的に走査する。

請求項（抜粋）：

照射履歴を実質的に有さない特性のレジストを用いて微細パターンを形成する露光装置において、第1マスクと第2マスクを相対的に走査する機構と、該第1マスク及び第2マスクの相対位置を高精度に検出する位置検出手段と、該位置検出手段の出力に基づいて該第1マスク及び第2マスクの相対位置を高精度に制御する制御手段とを有することを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (5件)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 514 C ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 502 G ,  H01L 21/30 515 F

Fターム (6件)：

5F046AA28 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CB12 ,  5F046CB17 ,  5F046DA06