電子線描画装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高橋明夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-162351
公開番号（公開出願番号）：特開平11-016801
出願日： 1997年06月19日
公開日（公表日）： 1999年01月22日
要約：

【要約】【課題】描画するパターンの露光量を最適にする露光量マップメモリのデータを元のパターンデータに可能な限り近いものにする。【解決手段】作成したマップメモリの値を読み出しファイル化するファイル作成手段と、元のパターンデータから図象データを抽出する手段と、それらから得られる2つのファイルを比較して相違の大きい処理範囲を検出する比較手段を設け、該処理範囲の処理時にはメッシュサイズをより小さいものにしてメモリの割り当てを増やした。

請求項（抜粋）：

描画パターンを作成する描画データ作成手段と、それを複数の階層構造の座標系を持つ描画可能なデータに変換する描画データ作成手段と、露光量マップとして格納するため基本単位がメモリ素子のアクセス可能最少単位に対応し、複数の大きさのメッシュに分解するデータ分解手段と、該データ分解手段の座標、大きさ(縦×横)等の出力データから面積値を累積演算してパターン分布の観測が可能な露光量マップ作成手段を備えた電子線描画装置において、前記露光量マップ作成手段が作成した第1のデータと、前記描画データ作成手段からの図象データを抽出して期待値を作成する第2データと、前記第1のデータと第2のデータを比較する比較手段を設け、該比較手段による比較データの比較誤差が大きい最下層の座標系の基本領域を検出し、その領域のメッシュサイズを小さくして処理精度を向上したことを特徴とする電子線描画装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 504 , G21K 5/04 , H01J 37/305

FI (4件)：

H01L 21/30 541 M , G03F 7/20 504 , G21K 5/04 M , H01J 37/305 B

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