特許

J-GLOBAL ID：200903067648433142

パターン形成装置、パターン形成方法

発明者： ▲高▼橋 達見 ,  曽根原 章夫 ,  富樫 和義
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 井上 誠一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-066340
公開番号（公開出願番号）：特開2004-272168
出願日： 2003年03月12日
公開日（公表日）： 2004年09月30日
要約：

【課題】前工程パターンとの位置ずれ防止を可能とするパターン形成装置、パターン形成方法等を提供する。【解決手段】パターン形成装置100は、基材長の伸縮を測定し(ステップ902)、基材長の伸縮割合((L+ΔL)/L)が所定の範囲内にない領域に関しては(ステップ903のNo)、前工程パターンの位置測定を行う(ステップ904)。パターン形成装置は、測定データ(基材長の伸縮の測定データ、前工程パターンの位置の測定データ)に基づいて描画データを算出し、当該描画データに基づいて新たなパターンの形成を行う(ステップ905)。パターン形成装置は、複数チャンネルライトバルブ、複数の照射ヘッド等を介して、異なる強度の複数のビームを同時に照射することによりパターン形成を行う。【選択図】 図9

請求項（抜粋）：

ビーム照射を行うことによりパターンの形成を行うパターン形成装置であって、 基材上の前工程パターンの位置あるいは前記基材上のマーク間距離を測定し測定データとして保持する測定手段と、 前記測定データに基づいて新たなパターンの描画位置に関する描画データを算出する描画データ算出手段と、 前記描画データに基づいて複数のビームを一括して照射する照射手段と、 を具備することを特徴とするパターン形成装置。

IPC (5件)：

G02B5/20 ,  G02B5/02 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1335 ,  G03F7/20

FI (5件)：

G02B5/20 101 ,  G02B5/02 B ,  G02F1/13 101 ,  G02F1/1335 505 ,  G03F7/20 501

Fターム (34件)：

2H042BA02 ,  2H042BA14 ,  2H042BA16 ,  2H048BA03 ,  2H048BA43 ,  2H048BB02 ,  2H048BB42 ,  2H088FA19 ,  2H088FA25 ,  2H088FA29 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088HA08 ,  2H088HA12 ,  2H088HA14 ,  2H088HA28 ,  2H088KA30 ,  2H088MA20 ,  2H091FA02Y ,  2H091FA35Y ,  2H091FB02 ,  2H091FB06 ,  2H091FC01 ,  2H091FC10 ,  2H091FC29 ,  2H091GA01 ,  2H091GA13 ,  2H091KA10 ,  2H091LA30 ,  2H097AA03 ,  2H097CA17 ,  2H097KA11 ,  2H097KA20 ,  2H097LA11