特許
J-GLOBAL ID：200903067658414839
荷電ビーム処理装置およびその方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-276243
公開番号（公開出願番号）：特開平8-138617
出願日： 1994年11月10日
公開日（公表日）： 1996年05月31日
要約：
【要約】【目的】イオンビームの照射により生じた試料の帯電を除去するために中和用電子ビームを照射し、2次電子検出を行なう。また、この帯電による試料の絶縁破壊を回避する。【構成】イオンビーム2による試料7の帯電を、電子ビーム15により電気的に中和する。ここで、中和電子銃13の先端をノズル状にし、試料7の表面近くに設置する。これにより、ノズル先端から放出した電子ビーム15は引き込み電極10により引き込まれることなく試料7の面に到達させ、2次電子のみを引き込み電極10により引き込み、2次電子の検出を行なう。
請求項（抜粋）：
試料を搭載したステージを内設し、排気手段を有する試料室と、荷電ビーム源で発生した第一の荷電ビームを集束させ、前記試料に走査して前記試料を処理する荷電ビーム光学系と、前記荷電ビーム光学系を内設し、前記試料室に接続し、排気手段を有するビーム室と、前記第一の荷電ビームの照射の際に、前記試料より放出した二次電子ないし2次イオンを検出する荷電粒子検出器と、前記試料室内に設けたノズルを介して、前記第一のビームによる前記試料の帯電領域に前記第一のビームと電気的に反対の極性の第二の荷電ビームを供給する中和装置を備えたことを特徴とする荷電ビーム処理装置。
IPC (4件)：
H01J 37/317
, H01J 37/20
, H01J 37/244
, H01J 37/305
