特許

J-GLOBAL ID：200903067663231025

イオンビーム発生方法およびその装置

発明者： 奥手 康弘 ,  安東 靖典
出願人/特許権者： 日新電機株式会社
代理人 (1件)： 山本 惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-155383
公開番号（公開出願番号）：特開平7-335163
出願日： 1994年06月13日
公開日（公表日）： 1995年12月22日
要約：

【要約】【目的】 イオン源から引き出すイオンビームのイオン電流密度を従来の下限よりも更に小さくすることができるイオンビーム発生方法およびその装置を提供する。【構成】 このイオンビーム発生装置は、イオンビーム40を射出するイオン源2と、それにイオンビーム引出し用の電圧を印加する電源装置30aとを備えている。イオン源2は、プラズマ14を発生させるプラズマソース部4と、そこからイオンビーム40を引き出す引出し電極系20とを有している。電源装置30aは、引出し電極系20を構成する第1電極21に接地電位を基準にして正の高電圧を印加する第1電源31と、第2電極22に第1電極21の電位を基準にして正の電圧を印加する出力電圧可変の第2電源32aと、第3電極23に接地電位を基準にして負の電圧を印加する第3電源33とを有している。

請求項（抜粋）：

ガスが導入されそれを放電によって電離させてプラズマを発生させるプラズマソース部と、このプラズマソース部内のプラズマから電界の作用でイオンビームを引き出すものであって複数枚の電極を有する引出し電極系とを有するイオン源を用いて、その引出し電極系を構成する電極の内の最プラズマ側の電極よりも下流側にある電極の電位を、当該最プラズマ側の電極の電位よりも高くなるように設定してイオンビームを引き出すことを特徴とするイオンビーム発生方法。

IPC (6件)：

H01J 37/08 ,  C23C 14/22 ,  C23C 14/48 ,  H01J 27/16 ,  H01J 37/317 ,  H01L 21/268

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平3-207859
  
• 特開平1-132033
  
• 特開平1-209645