パターン検査方法及び装置

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：作田康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-265981
公開番号（公開出願番号）：特開2002-074335
出願日： 2000年08月30日
公開日（公表日）： 2002年03月15日
要約：

【要約】【課題】パターン検査装置ではステージ走査を繰返して画像を取得し、検出した順に検出画像を記憶しておいた同一のパターンが期待できる場所同士の画像を比較して異なる場所を欠陥候補とし、2回欠陥候補となった場所を真の欠陥とする。異なるステージ走査で得られた画像の比較、又は1回しか検査できない場所が発生し、それぞれ各種誤差欠陥検出性能低下、又は検査不可能領域となる。【解決手段】画像検出順とは別に同一ステージ走査で得られた画像内で必ず2回以上比較するよう比較順をスケジューリングし、比較対象の画像が確定した段階で比較することで同一のステージ走査のみで得られた画像同士を比較する。

請求項（抜粋）：

対象物基板に光又は荷電粒子を照射し、ステージを走査しながら、発生する光、二次電子、反射電子、透過電子、吸収電子の何れかを検出、A/D変換することでディジタル画像を検出、記憶し、1箇所が2回以上判定されるように予め決めた同一であることが期待できる2枚の画像が確定後、2枚の画像を比較して欠陥候補を取出し、同一場所が2回以上欠陥候補になった場合に真の欠陥と判定することを特徴とするパターン検査方法。

IPC (9件)：

G06T 1/00 305 , G01N 21/956 , G01N 23/04 , G01N 23/225 , G01R 1/06 , G01R 31/02 , G01R 31/302 , G02F 1/13 101 , H01L 21/66

FI (9件)：

G06T 1/00 305 A , G01N 21/956 A , G01N 23/04 , G01N 23/225 , G01R 1/06 F , G01R 31/02 , G02F 1/13 101 , H01L 21/66 J , G01R 31/28 L

Fターム (66件)：

2G001AA03 , 2G001BA07 , 2G001BA11 , 2G001BA14 , 2G001CA03 , 2G001FA01 , 2G001FA06 , 2G001GA06 , 2G001HA01 , 2G001HA07 , 2G001HA13 , 2G001HA20 , 2G001JA02 , 2G001JA03 , 2G001JA11 , 2G001JA14 , 2G001JA16 , 2G001KA03 , 2G001LA11 , 2G001MA05 , 2G001PA01 , 2G011AA01 , 2G011AD02 , 2G011AE01 , 2G014AA02 , 2G014AA03 , 2G014AB59 , 2G014AC11 , 2G032AE08 , 2G032AF08 , 2G051AA51 , 2G051AA73 , 2G051AB02 , 2G051BA00 , 2G051CA03 , 2G051CA04 , 2G051DA07 , 2G051EA08 , 2G051EA12 , 2G051EA14 , 2G051EB01 , 2G051EB02 , 2H088FA13 , 2H088MA20 , 4M106AA01 , 4M106BA02 , 4M106BA04 , 4M106CA39 , 4M106DB05 , 4M106DB21 , 4M106DB30 , 4M106DJ11 , 4M106DJ18 , 4M106DJ21 , 5B057BA01 , 5B057CA02 , 5B057CA08 , 5B057CA12 , 5B057CA17 , 5B057DA03 , 5B057DB02 , 5B057DB05 , 5B057DB09 , 5B057DC03 , 5B057DC04 , 5B057DC32

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